Китай вышел на новый уровень в разработке оборудования для чипов

В Китае готовятся к выпуску первой в стране разработанной системы для электронно-лучевой литографии, которая позволит местным заводам коммерчески производить микросхемы.

Как передает Vesti.az, аппарат, получивший название «Сичжи» в честь древнекитайского каллиграфа Ван Сичжи, создан специалистами лаборатории квантовых технологий Чжэцзянского университета в Ханчжоу, сообщает South China Morning Post.

«Сичжи» использует сфокусированный электронный луч для вытравливания микросхем на кремниевых пластинах. Ранее китайские исследователи не могли получить подобное оборудование из-за экспортных ограничений США и ряда других стран. Новая разработка призвана снять эту зависимость и ускорить развитие национальной микроэлектронной промышленности.

По данным Hangzhou Daily, поставка «Сичжи» позволит Китаю «выйти из технологического тупика» и расширить производство чипов.

Системы литографии — одни из самых сложных машин в мире и играют ключевую роль в массовом производстве микросхем. Китай пока находится на ранней стадии создания собственных инструментов для этой технологии, но недавние достижения укрепляют его позиции в отрасли.