Azərbaycanlı alimlər yüksək texnologiyalı funksional materiallar üçün yeni Şiff əsaslar yaradıblar
Icma.az bildirir, Azertag portalına istinadən.
Bakı, 16 iyul, AZƏRTAC
Elm və Təhsil Nazirliyi akademik Əli Quliyev adına Aşqarlar Kimyası İnstitutunun alimlərinin Bakı Mühəndislik Universiteti və Rusiyanın müxtəlif elmi-tədqiqat mərkəzlərindən olan həmkarları ilə apardıqları müştərək tədqiqatların nəticələri “Web of Science” bazasında arxivləşdirilən impakt faktoru 4.7 olan dünyada məşhur “Elsevier” nəşriyyatının jurnalında (“Journal Molecular Structure”) məqalə kimi dərc olunub.
İnstitutdan AZƏRTAC-a verilən məlumata görə, tədqiqat zamanı azərbaycanlı alimlər yeni Şiff əsasları sintez edib, struktur xüsusiyyətlərini müfəssəl öyrəniblər. Ətraflı araşdırmadan məlum olub ki, asan və əlverişli üsulla alınan birləşmələr təkrarlana bilən məhsullar verir. Onların kristal dizaynı, ilk növbədə, müxtəlif molekuldaxili və molekullararası hidrogen rabitəsinin təsirinə məruz qalır. Əldə edilən tapıntılara əsasə, müəlliflər hesab edirlər ki, salisilaldehid fraqmenti saxlayan Şiff əsasları yüksək texnologiyalı funksional materialların işlənib hazırlanmasında yeni perspektivlər vəd edir. Bu materiallar qiymətli katalitik, farmasevtik və optik xüsusiyyətlərə malikdir. Tədqiqat qrupu hazırda bu birləşmələrin tam potensialını və onların xrom materialları kimi potensial tətbiq imkanlarını müəyyənləşdirmək üçün araşdırmalarını davam etdirir.
Bu mövzuda digər xəbərlər:
Baxış sayı:112
Bu xəbər 16 İyul 2025 13:10 mənbədən arxivləşdirilmişdir



Daxil ol
Online Xəbərlər
Xəbərlər
Hava
Maqnit qasırğaları
Namaz təqvimi
Kalori kalkulyatoru
Qiymətli metallar
Valyuta konvertoru
Kredit Kalkulyatoru
Kriptovalyuta
Bürclər
Sual - Cavab
İnternet sürətini yoxla
Azərbaycan Radiosu
Azərbaycan televiziyası
Haqqımızda
TDSMedia © 2025 Bütün hüquqlar qorunur







Günün ən çox oxunanları



















